 |
20x pionowy mikroskop metalurgiczny do kontroli płytek i PFD
Szczegóły Produktu:
| Miejsce pochodzenia: | DOGGUAN, CHINY |
| Nazwa handlowa: | L&D |
| Orzecznictwo: | CE |
| Numer modelu: | LM-311 |
Zapłata:
| Minimalne zamówienie: | 1 szt |
|---|---|
| Cena: | negotiation |
| Szczegóły pakowania: | Najpierw zapakowane pianką, a następnie wzmocnione kartonem do pakowania zewnętrznego |
| Czas dostawy: | 15 dni |
| Zasady płatności: | T / T, Western Union, MoneyGram |
| Możliwość Supply: | 500 zestawów miesięcznie |
|
Szczegóły informacji |
|||
| Imię: | Mikroskop metalurgiczny | Okular: | PL10X / 22mm |
|---|---|---|---|
| Obiektyw: | 5X, 10X, 20X, 50X | Nos: | Pięciokrotny |
| Etap: | 6 cali | ||
| High Light: | 20x pionowy mikroskop metalurgiczny wafel,mikroskop metalurgiczny LM311,20x mikroskop metalurgiczny do wafla |
||
opis produktu
20x pionowy mikroskop metalurgiczny do kontroli płytek i PFD
Dzięki nowo zaprojektowanemu celowi metalurgicznemu LWD LM-311 może zapewnić doskonały obraz.
Jasne / ciemne pole / proste polaryzowanie jest dostępne w mikroskopie metalurgicznym LM-311.
Funkcja
-
Cele metalurgiczne na duże odległości robocze
-
Wysokiej jakości nosek
-
Różne filtry interferencyjne
-
dostępne są różnorodne obserwacje
Dane techniczne
| System optyczny | System optyczny z korekcją koloru Infinity |
| Przeglądanie głowy | Regulacja 5-35 °, wyprostowany obraz, odchylana głowica trójokularowa, rozstaw źrenic: 50-76 mm, jednostronna regulacja dioptrii: ± 5 dioptrii, współczynnik podziału: 100: 0 lub 0: 100 (dla pola widzenia 22/23/16 mm) |
| Okular | Okular planowy PL10X / 22mm |
| Cel | LMPlan-BD Infinity długa odległość robocza obiektyw metalurgiczny w jasnym / ciemnym polu 5X-DIC LMPL5X / 0,15 WD9mm |
| LMPlan-BD Infinity długa odległość robocza obiektyw metalurgiczny w jasnym / ciemnym polu 10X-DIC LMPL10X / 0,3 WD9mm | |
| LMPlan-BD Infinity długa odległość robocza obiektyw metalurgiczny w jasnym / ciemnym polu 20X-DIC LMPL20X / 0,50 WD3,4mm | |
| LMPlan-BD Infinity długa odległość robocza obiektyw metalurgiczny w jasnym / ciemnym polu 50X LMPLFL50X / 0,55 WD7,5mm | |
| Nosek | Intensywny, pięcioosobowy nosek, z gniazdem DIC |
| Mechanizm ogniskowania | Odbita rama z dolnym współosiowym mechanizmem ogniskowania, zakres zgrubny: 33 mm, dokładność precyzyjna: 0,001 mm, z górnym limitem i regulacją naciągu. |
| Etap | 6-calowy trójwarstwowy stolik mechaniczny z niskopozycyjną regulacją współosiową;rozmiar: 445 mm × 240 mm, zakres ruchu dla odbicia: 158 mm × 158 mm;zakres ruchu dla transmitowanych: 100 × 100 mm;z uchwytem sprzęgła do szybkiego ruchu;szklana płyta do użytku przez światło przechodzące i odbite. |
| System oświetlenia | Oświetlacz odbitego jasnego pola / ciemnego pola, z przysłoną aperturową irysową i przysłoną polową, regulowany centralnie;z urządzeniem przełączającym z jasnym polem i ciemnym polem;ze szczeliną na filtr i szczeliną polaryzacyjną |
| Adapter aparatu | Adapter C-mount 0.5X / 0.65X / 1X, regulacja ostrości |
| Napięcie wejściowe | 100-240V |
| Inni | polaryzator, analizator stacjonarny, analizator obrotowy 360 °;filtr interferencyjny;mikrometr o wysokiej precyzji; nasadka DIC, oświetlacz konturowy |
Chcesz dowiedzieć się więcej o tym produkcie